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晶圓去膜液

REM-3662 去膜劑是一種用于Wafer Bumping的專業液,獨特的產品組分能夠加速剝離,不攻擊錫(或者錫鉛),特別適用于高密度錫球工藝制程。
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產品描述

產品(pin)描(miao)述 

REM-3662去膜劑(ji)是(shi)一種用于Wafer Bumping的專(zhuan)業液,獨特的產品組分能夠加速剝離,不攻擊錫(或者錫鉛),特別適用于高密度錫球工藝制程。


產品優(you)點

1.高速剝離;

2.不攻(gong)擊錫(xi)(或者錫(xi)鉛(qian));

3.統一的剝(bo)離(li)速度,非常適合制(zhi)程管理;

4.工作(zuo)液壽(shou)命(ming)長;

5.槽液簡單(dan)易操作;

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物理參數

1.外(wai)觀:澄清至棕黃色液(ye)體(ti)

2.氣(qi)味(wei):特征氣(qi)味(wei)

3.儲存溫度:5–35℃

4.含水率:<1.0%


槽液配制

1.100%原液配槽(cao)使(shi)用

2.工作液溫度:90–100℃


設(she)備(bei)條件

1.工作槽:不銹鋼(gang)

2.加熱器:鐵(tie)氟(fu)龍

3.抽風設備:需要(yao),可以(yi)選裝風量檔位裝置(zhi)

 

槽液分(fen)析

1.工作液濃度(du):

a.試劑(ji):0.1 N HCl,溴(xiu)酚綠和甲基(ji)紅(hong)指示劑(ji)

b.步(bu)驟(zou):

(1)移(yi)取1ml工作液,置于250ml錐形瓶(ping)內;

(2)加入(ru)100ml純(chun)水(shui)稀釋;

(3)滴入各5滴溴酚綠和甲基(ji)紅指示劑;

(4)用0.1N HCl滴定,由綠(lv)色至橙(cheng)-粉(fen)紅色終點。

公式(shi):REM 3662濃(nong)度(N) = ml HCl * N HCl   (工作液濃(nong)度:0.7–1.3 N)

2.水分檢測:

卡式(shi)水分儀:取1-2ml的工(gong)作液,

按照正常(chang)的操作(zuo)流程讀(du)取(qu)讀(du)數 (含水率:<1.0%)


安全守則

任何公司或操作人(ren)員在使(shi)用前, 需先參考物料安全(quan)資料表以確保使(shi)用者安全(quan)。